等离子清洗仪

　　MIPC1000多功能等离子清洗仪最多可配备四路气体进气系统，搭配高精度质量流量计（MFC），可实现任意比例气体混合，从而实现不同工艺气体清洗需求。通过配备的7英寸触屏控制系统，能够实现清洗配方的建立和存储，可实现一键完成样品清洗。Downstream过滤电场能够过滤传统等离子体中离子/电子成分，仅利用低能自由基进行清洗，能够去除溅射损伤、热效应及刻蚀效应对样品微观结构和成分的破坏。满足各类真空设备样品/样品舱清洗，同时可对电镜光阑、各类真空部件进行清洗，满足各种清洗需求。

　　技术优势

　　◆多功能：具备在线腔体清洗和独立清洗功能；

　　◆高效性：ICP诱导激发，清洗范围广；

　　◆超高真空清洗：＜5mTor~2Tor；

　　◆清洗功率范围大：0-100W；

　　◆清洗柔和：Downstream设计，无溅射效应，无热效应；

　　◆可同时清洗/存储两根透射电镜样品杆；

　　◆扩展性好：采用快旋头，等离子发生器，可轻松对各类真空腔体进行清洗；

　　◆超大清洗样品舱：直径7英寸X7英寸高；

　　◆能够碳膜清洗，增加增加碳膜亲水性；

　　◆触屏控制：7英寸触屏，配方式操作。

　　主要应用

　　◆FIB/SEM/TEM/Nano Probe

　　◆XPS/GC/SIMS

　　◆Synchrotron Radiation

　　◆各类真空腔体清洗

　　◆各类分析设备样品清洗

http://www.shmicroinno.cn/Products-38954576.html

https://www.chem17.com/st645752/product_38954576.html

 

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